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反應離子刻蝕機

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型號： RIE 2000反應離子刻蝕機產(chǎn)地：美國反應離子刻蝕機關鍵機：反應離子刻蝕系統(tǒng)，反應離子蝕刻機，RIE刻蝕機，反應離子蝕刻系統(tǒng)，進口反應離子蝕刻機品牌：MYCRO 環(huán)球供應，本地服務！MYCRO專業(yè)為您提供實驗室RIE反應離子刻蝕機設備，全方位的技術服務及售后，MYCRO值得您的的信賴！ RIE 2000 反應離子刻蝕機是專門為微電子器件的各向異性刻蝕設計的。這款緊湊型的研究級設備可以用于工藝開發(fā)和小批量生產(chǎn)，從而可以模擬大型生產(chǎn)設備的操作。 RIE 2000是一套分子渦輪真空泵系統(tǒng)，可以達到底限壓力10-6 torr。這樣的低基準壓力使得刻蝕前腔體內(nèi)的殘留物被消除，從而提供了一個潔凈的蝕刻環(huán)境，使高度的異向性刻蝕成為可能。其200毫米直徑的真空倉可以容納最大6英寸直徑及相應尺寸不規(guī)則基片的蝕刻。RIE 2000配套的全手動控制系統(tǒng)及數(shù)字顯示讀取，使設備可以進行更廣泛的蝕刻實驗參數(shù)設定，并不受限于常規(guī)自動化的處理范圍。。技術規(guī)格: 真空泵: 70 1/sec 渦輪分子泵氣體輸入: 雙通道，全不銹鋼構造，配備整體式氣體噴頭。系統(tǒng)排氣/泄壓裝置:獨立式連鎖電磁閥，配有干燥氮氣連接。射頻電源: User variable 0-200 watt; 13.56 MHz frequency, 手動調(diào)節(jié);風冷; 固態(tài)設計. 工藝時間控制: 蝕刻自動終止，最長時間為99:99:59 輸入電源: 115/230 VA, 50/60 Hz, 10/5 amps. 系統(tǒng)尺寸: 20.25" W x 16" D x 15" H 真空處理艙尺寸: quartz, 8" OD x 4" high. 選配件:不銹鋼艙,觀測窗;質量流量控制系統(tǒng),最多配四路氣體通道;冷陰極真空計需要更詳細的Reactive Ion Etcher反應離子刻蝕機產(chǎn)品資料，請與邁可諾技術有限公司中國營銷服務中心區(qū)域辦公室聯(lián)系! 010-52914751 / 400-6800-397轉813（北京） 021-33197367 / 400-6800-397轉823（上海） 020-85583301 / 400-6800-397轉833（廣州） 027-87163162 / 400-6800-397轉843（武漢） Email: sales@mycro.com.cn website: http://www.mycro.com.cn 客服熱線：400-8800-298

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