差示掃描量熱計

　　主要技術(shù)指標(biāo)：變溫范圍：-170～725攝氏度；溫度精度：0.8攝氏度；加熱或冷卻速率:0.01～550攝氏度/min?！　」δ?應(yīng)用范圍：研究聚合物的玻璃化轉(zhuǎn)變；研究聚合物的熔融...

復(fù)旦大學(xué)高分子科學(xué)系

多肽自動純化色譜儀 (LC-MS)

　　主要技術(shù)指標(biāo)：泵流速：0.5-150mL/min；自動進樣器：最大進樣體積15uL(分析)，3mL(制備)；紫外檢測器：波長范圍190-700nm；質(zhì)譜檢測器：單級四級桿檢測器，質(zhì)量范圍2-2000Da，ESCI...

復(fù)旦大學(xué)高分子科學(xué)系

拉曼譜儀

主要技術(shù)指標(biāo)：兩級相加單色儀。不對稱的Czerny-Turner結(jié)構(gòu)。針對紫外，可見和紅外不同區(qū)域可轉(zhuǎn)換的光柵。高精度sin-bar驅(qū)動。光柵水平轉(zhuǎn)動軸。3級/4水平狹縫，以獲得很高的雜散光濾除水平。...

復(fù)旦大學(xué)物理學(xué)系

顯微拉曼系統(tǒng) (Micro Raman system)

主要技術(shù)指標(biāo)：通光效率大于30%。光譜范圍：200nm-1000nm，光譜分辨率：1cm^-1?？臻g分辨率：橫向0.5微米，縱向2微米。低波數(shù)：200cm^-1，100cm^-1，50cm^-1，10cm^-1供選擇?？蛇x激光器：紫...

復(fù)旦大學(xué)物理學(xué)系

近場掃描光學(xué)顯微鏡 (Scan near-field optical microscopy)

主要技術(shù)指標(biāo)：采用3DFlatscan掃描器，掃描范圍:XY方向70um、Z方向70um，另外有30um和10um掃描器選配，掃描步進：70um掃描器＜1nm、10um掃描器＜0.1nm，掃描器厚度7mm,重量75克；近場光學(xué)顯...

復(fù)旦大學(xué)物理學(xué)系

熒光光譜儀 (Fluorescence spectroscope)

主要技術(shù)指標(biāo)：焦距320mm孔徑f/4.1光譜范圍150~1500nm，用1200條/mm光柵；光柵尺寸68mmx68mm支座上最多可裝光柵數(shù)3平場尺寸30mmx12mm分辨率(用出口狹縫和光電倍增管時)0.06nm波...

復(fù)旦大學(xué)物理學(xué)系

感應(yīng)耦合等離子刻蝕系統(tǒng)

主要技術(shù)指標(biāo)：樣品尺寸：2,4，6英寸基片，兼容加工小片和碎片；有加熱和冷卻裝置；下電極溫度范圍-150°C…+400°C；刻蝕氣體8路：HBr，SF6，C4F8,CHF3，BCl3,O2,N2,Ar。...

復(fù)旦大學(xué)物理學(xué)系

高功率飛秒激光器

主要技術(shù)指標(biāo)：脈沖寬度：30-100fs;重復(fù)頻率：1kHz;調(diào)諧范圍：800-18000nm脈沖能量：1-1000uJ 功能/應(yīng)用范圍：光譜；超快動力學(xué)研究　　　主要測試和研究領(lǐng)...

復(fù)旦大學(xué)分析測試中心

感應(yīng)耦合等離子刻蝕系統(tǒng)

主要技術(shù)指標(biāo)：樣品尺寸：2,4，6英寸基片，兼容加工小片和碎片；有加熱和冷卻裝置；下電極溫度范圍-150°C…+400°C；刻蝕氣體8路：HBr，SF6，C4F8,CHF3，BCl3,O2,N2,Ar。...

復(fù)旦大學(xué)物理學(xué)系