電學測試系統(tǒng)

　　主要技術(shù)指標：電流精度10fA電容高頻1MHz 　　功能/應(yīng)用范圍：用于半導體器件的電學(IV、CV)特性測試 　　主要測試和研究領(lǐng)域：電子/信息技術(shù) ...

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掃描探針顯微鏡

　　主要技術(shù)指標：AFM噪聲水平0.3,可對云母、石墨原子像成像控制器反饋相應(yīng)時間：2s,采樣率50MHZ掃描范圍：0.4μm×0.4μm×0.4μm或10μm×10μm×2...

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納米器件濺射儀

主要技術(shù)指標：樣品尺寸為4寸硅片濺射室極限真空優(yōu)于1.210-6Pa，進樣室(loadlock)真空優(yōu)于6.710-4Pa淀積薄膜厚度均勻性優(yōu)于3%襯底可加熱，溫度最高可達800oC 功能/應(yīng)用范...

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存儲薄膜濺射儀

　　主要技術(shù)指標：極限真空：成膜室1.210-6Pa(loadlock)準備室6.710-4Pa樣品尺寸：4寸(1片/次)可通3路氣體：Ar、N2、O2(50sccm)。可做普通濺射、共濺射和反應(yīng)濺射，可對樣...

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集成電路自動測試系統(tǒng)

　主要技術(shù)指標：數(shù)字通道：16路P1000數(shù)字通道；128路C400e數(shù)字通道；80路C200e數(shù)字通道模擬通道：一塊AV8，含四路24bit音頻DAC/ADC模塊，四路14bit視頻DAC/ADC模塊一塊WGD，500MspsAW...

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原位納米力學測試系統(tǒng)

　　主要技術(shù)指標：納米壓痕試驗縱向載荷力和位移可實現(xiàn)的最大載荷：10mN位移分辨率：0.0004nm可實現(xiàn)的最大位移：5μm2納米劃痕試驗橫向載荷力和位移可實現(xiàn)的最小橫向力：<5μN...

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納米熱分析系統(tǒng)

　　主要技術(shù)指標：分辨率10X10納米Multimode8型　　功能/應(yīng)用范圍：納米材料表面形貌、納米薄膜粗糙度研究，納米材料粒徑測量、納米復(fù)合材料相組成研究及復(fù)合材料界面研究...

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物理特性測試系統(tǒng) (physical property measurement system)

主要技術(shù)指標：溫度范圍：1.9-400K；磁場：+-9TACMS選件：交流磁化率：2*10-8emu；直流磁化率：2.5*10-5emu；VSM選件：直流磁化率：10-7emuACT交流電輸運；Resistivity電阻(<=4M歐姆...

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超高真空分子束外延生長和原位測量系統(tǒng) (vacuum system for surface studies)

　　主要技術(shù)指標：真空度優(yōu)于1＊10-10torr 　　功能/應(yīng)用范圍：超高真空生長磁性金屬超薄膜以及復(fù)雜氧化物薄膜 　　技術(shù)特色：能夠生長各種臺階樣品以及楔形...

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超短脈沖激光器

主要技術(shù)指標：Avg.ModelockedPower:>300mW　Bandwidth:>70nm　CentralWavelength(nominal):800nm　RepetitionRate:80MHz　PulseWidth:<20fs　Internal...

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強磁場低溫系統(tǒng) (Low temperature superconducting magnet system)

主要技術(shù)指標：最大磁場15T，最低溫度300mK　　功能/應(yīng)用范圍：低溫時測量樣品在磁場下電學輸運性質(zhì)　　技術(shù)特色：垂直樣品的磁場能達到15T，測量噪聲低　　...

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電子束蒸發(fā)系統(tǒng) (Thin Film Depostion System)

主要技術(shù)指標：電子槍功率3kW，本底真空10E-9Torr，6寸旋轉(zhuǎn)樣品托(可液氮冷卻)，坩堝5*2.24cc 功能/應(yīng)用范圍：蒸鍍各種金屬薄膜 主要測試和研究領(lǐng)域：電子/信...

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原子力顯微鏡

主要技術(shù)指標：測量模式：接觸模式、輕巧模式、MFM、EFM、智能掃描模式、抬高模式、力曲線模式、TR-Mode、橫向力模式、STM、C-AFM；XY方向不小于90µm×90µm，Z方向不小于10...

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雙束顯微鏡

主要技術(shù)指標：分辨率：1.0nm@15kV、1.9nm@1kV；離子束分辨率：2.5nm@30kV;加速電壓：0.1-30kV(SEM)、1-30kV(FIB)?功能/應(yīng)用范圍：用于各種微納器件和低維納米人工結(jié)構(gòu)的制作，是...

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電子束蒸發(fā)鍍膜機

主要技術(shù)指標：系統(tǒng)的極限壓強可達≤5x10-8Torr；30分鐘從大氣壓抽到≤5x10-6Torr;坩堝的數(shù)目4個，坩堝的容量不小于7cc;電子槍功率不小于5kW。 功能/應(yīng)用范圍：主要用于...

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強磁場低溫系統(tǒng)

主要技術(shù)指標：最大磁場15T，最低溫度300mK　　功能/應(yīng)用范圍：低溫時測量樣品在磁場下電學輸運性質(zhì)　　技術(shù)特色：垂直樣品的磁場能達到15T，測量噪聲低　　...

復(fù)旦大學分析測試中心

電子束蒸發(fā)系統(tǒng)

主要技術(shù)指標：電子槍功率3kW，本底真空10E-9Torr，6寸旋轉(zhuǎn)樣品托(可液氮冷卻)，坩堝5*2.24cc　　功能/應(yīng)用范圍：蒸鍍各種金屬薄膜　　主要測試和研究領(lǐng)域：電子/信息技...

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原子力顯微鏡

主要技術(shù)指標：測量模式：接觸模式、輕巧模式、MFM、EFM、智能掃描模式、抬高模式、力曲線模式、TR-Mode、橫向力模式、STM、C-AFM；XY方向不小于90µm×90µm，Z方向不小于10...

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雙束顯微鏡

主要技術(shù)指標：分辨率：1.0nm@15kV、1.9nm@1kV；離子束分辨率：2.5nm@30kV;加速電壓：0.1-30kV(SEM)、1-30kV(FIB)?功能/應(yīng)用范圍：用于各種微納器件和低維納米人工結(jié)構(gòu)的制作，是...

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