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壓汞測試? ?測試大孔 預(yù)約須知 1，此測試樣品無法回收； 2，可分析孔徑范圍：5～340,000 nm，可分析粉末（可能誤差比較大）或者塊狀樣品； 3，對樣品要求：(1).樣品量：最好2～3克；(2).樣品尺寸不超過15*15*15mm； 4，有疑問請聯(lián)系當(dāng)?shù)仨?xiàng)目經(jīng)理或客服。 高性能全自動(dòng)壓汞儀 型號：美國麥克公司Auto pore 9500 9510 測試項(xiàng)目： a.孔徑分布，可分析孔徑范圍：5～340,000 nm，可分析粉末（可能誤差比較大）或者塊狀樣品； b .孔隙率，僅能測樣品要壓壞前正常被測到的孔且是連通孔的孔隙率。 樣品要求： 1、可分析粉末（可能誤差比較大）或者塊狀樣品， 2、樣品量：水泥混凝土類似樣品最好2～3克，其他樣品體積1ml以上即可； 3、塊體樣品尺寸不超過15*15*15mm； 常見問題及回答： 測試的比表比預(yù)期的要小很多 雖然壓汞儀的測試范圍在5nm-340μm，但基本木有樣品能抵抗5nm孔對應(yīng)的壓力，所以絕大部分樣品圓圓測不到5nm，一般壓汞儀僅能測到樣品能抵抗一定的壓力而不被破壞所對應(yīng)的孔的比表，通常這些孔可以籠統(tǒng)的說是大孔，所以圧汞測的比表僅僅是樣品中部分大孔的比表，而不是全部孔對應(yīng)的比表，自然要比樣品真實(shí)比表要小得多。 解決辦法：建議客戶用bet來測小孔的比表，跟圧汞測得的大孔的比表配合來表征樣品的孔比表參數(shù)。 測的的孔徑分布比SEM圖片看到的要小或者大 可能原因：第一，圧汞測的是樣品整體的孔徑分布，而且是樣品被壓力破壞前的孔徑分布，而SEM測的是樣品表面微小區(qū)域的孔徑分布，而且倍數(shù)太高的話，SEM的標(biāo)尺是可能有一定誤差的，所以兩者可比性并不太大；第二，可能SEM中看到的目標(biāo)孔在樣品中含量太低，在圧汞數(shù)據(jù)顯示的峰太小，需要放大才能看到，這個(gè)需要具體樣品，具體分析。 服務(wù)簡介 壓汞儀用來測定粉末和固體重要的物理特性，如孔徑分布、總孔體積、總孔表面積、中值孔徑、樣品的密度（真密度和堆密度）、流體導(dǎo)電性和機(jī)械性能。 檢測項(xiàng)目 壓汞測試，可分析孔徑范圍：5～340,000 nm，壓力范圍：0.5～60000 psia。 樣品要求 改性土、水泥漿、混凝土、陶瓷、石墨烯、煤炭、氧化鋁以及其他材料，其塊狀或者粉末的空（孔）隙率、孔隙結(jié)構(gòu)及其分布特征分析。 1、 樣品量：最好2～3克 2、 樣品尺寸不超過15*15*15mm。

http://www.weipingtest.cn/wpkj_gxyq 我們能做，歡迎咨詢 檢測項(xiàng)目 適用于各種材料的研究與產(chǎn)品測試，包括測量沸石、碳材料、分子篩、二氧化硅、氧化鋁、土壤、黏土、有機(jī)金屬化合物骨架結(jié)構(gòu)等各種材料。 主要測試項(xiàng)目： 1.比表面積測試，主要數(shù)據(jù)是比表面積值，測試吸附壓力只做到0.4 左右，不含完整的吸脫附曲線。 2.介孔全分析，包含比表面積，介孔（2-50 nm）孔徑分布數(shù)據(jù)。 3.微孔全分析，包含比表面積，微孔（0.5-2 nm）孔徑分布數(shù)據(jù)。 4.全孔全分析，包含比表面積，全孔（0.5-50 nm）孔徑分布數(shù)據(jù)。 5.吸附量測試，可選擇二氧化碳吸附和氮?dú)馕?，測試溫度范圍為0到60攝氏度，0攝氏度的二氧化碳吸附可以表征微孔孔徑分布。 6.高壓甲烷吸附，測試壓力范圍為0-18個(gè)大氣壓，測試溫度范圍為0-100攝氏度。 孔徑分布可做BJH , T-Plot, DFT, HK 等孔徑分布模型。 樣品要求 1.樣品要求為固體（粉末，薄膜，塊體均可），樣品需干燥不含水 2.對已知比表面積值的樣品，可根據(jù)公式：比表面積*樣品量（g）=15?來大致確定所提供樣品量，提供樣品質(zhì)量超出計(jì)算值20%即可。 3.對于未知比表面積樣品，一般測試全孔和微孔質(zhì)量要100mg以上，測試介孔需要200mg以上，預(yù)估比表面積值小于10m2/g需準(zhǔn)備2 g左右的樣品。 4.塊體樣品要處理成顆粒為0.2 mm左右的顆粒，方便測試?yán)蠋熯M(jìn)行樣品填充。 5.薄膜樣品需要裁減為0.5X0.5 cm尺寸以下，方便測試?yán)蠋熯M(jìn)行樣品填充。 6.為方便測試?yán)蠋熑?，請不要用自封袋裝樣，尤其是樣品量比較少的情況下請使用小型離心管送樣。 7.二氧化碳吸附測試樣品要求3倍正常氮?dú)釨ET測試樣品要求的質(zhì)量，甲烷吸附樣品量需要樣品量為1-3 g。