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哈林槽

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    • 哈林槽 詳細說明 一.簡介 1500mL 槽子規(guī)格尺寸(內徑):高125mm,長250mm,寬60mm 哈林試驗槽(Haring cell)是用于測定鍍金液的均一電著性,陰極板置于兩端,可移動陽極板置于中間任何定點,以測定陽極到兩陰極的電流分配之比較金屬析出量之比。   在原始的發(fā)明中,槽的尺寸為長度60cm,寬度10cm, 高度10cm,鍍液量6000cc。由槽的尺寸及液量,可知在試驗前的建浴,試驗中的(連續(xù)過濾)液體凈化,鍍液攪拌的均勻度及溫度的均一控制等操作,如果沒有優(yōu)良的輔助器具,將難于達到設定的操作標準。因而影響到試驗的準確性,因此為求得空間的節(jié)省、槽的清洗、鍍液分配及凈化等操作之方便,遂有1500cc,2000cc等改良型這哈林試驗槽之出現。 二.哈林試驗   哈林試驗為測定電流分配比(P)與金屬析出比(M)之關系,而以百分比表示均一電著性(T)之試驗。均一電著性良好時為正,不良時為負,其表示法有數種,通常適用于Field公式, 其計算法如下: 均一電著性T(%)=(P1-M)/(P+M-2)*100 P:(liner ratio)電流分配比,以距離比的倒數表示, M:(Metal ratio)金屬析出比, 注:陽極板亦有使用孔狀或網狀者.(以利鍍液流通、均勻) 三.均一電著性之影響 在電鍍過程里由外觀來說,提高均一電著性將可得到更平整的鍍膜,得以提升產品的美觀及附加價值。就提高生產管理而言,將節(jié)省許多的經費,并擴大產量。 舉例來說:(例一)有一個電路板鍍金手指的生產業(yè)者,他的客戶要求在金手指上鍍5um之黃金,但是他發(fā)現,如果要使金手指中間低電流域達到5um時,兩端高電流區(qū)域之厚度已達到10-12um,話說回來,如果應用哈林槽試驗來提升鍍液的電著均一性,將使高低電流區(qū)域之鍍膜厚度更加平均.這樣不但可縮短電鍍時間擴大產量還可節(jié)省金屬鹽之消耗,經長久累計,那將是一筆可觀的金錢。   (例二)有一性酸性鍍鋅者,購得某(大廠牌)的酸性鋅光澤劑經滾桶試鍍后,外觀非常的漂亮,但在后處理的鉻酸鹽液處理后,螺絲牙縫內露出基材-鐵,這時 他還是很信任(大廠牌)于是再試一延長電鍍時間,加強過濾,降低鉻酸鹽之酸含量及浸漬時間之縮短,清潔匯流排(集電導線)調整PH值...等,一連幾天問題依舊,最后換了另一家廠牌的建浴配方及光澤劑才使問題解決。在這個例子里,螺絲牙縫(低電流)及牙尖(高電流)的電著厚度相差很大,都是均一性不良造成的,因此可斷定的說這個大廠牌在開發(fā)過程中忽略了哈林試驗的重要,導致信譽受損。 又如果我們的業(yè)者能在購入化學品前,將樣品預做哈林試驗也就不會虛擲了時間和人力。 由以上簡例我們得知,哈林試驗-均一電著性之重要性, 這提供我們鍍液的開發(fā)改良及生產工程上的均一性管理。在研究上藉此開發(fā)出最優(yōu)良的配方提升產業(yè)水準,在生產管理上利用此測知鍍液中的各種鹽類(金屬鹽、導電鹽、緩沖鹽 添加劑),PH值,溫度… 等之變化,對均一性之改變及影響。有許多業(yè)者認為,哈氏試驗槽(HUIIC-EII)已可解決他們 許多研究生管理上的困擾.這是我們都同意的視點,但是在均一電著性之試驗及應用上,哈氏槽實在很難得到客觀的比較標準。因此才有哈林試驗槽的發(fā)明及應用.謹簡咯說明哈林試驗槽之應用,提升吾等鍍金工業(yè)之水準是唯所盼。

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