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雙靶磁控濺射儀

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結(jié)構(gòu) （點(diǎn)擊圖片查看詳細(xì)資料）輸入電源 220VAC 50/60Hz, 單相 2000W (包括泵) 濺射電源安裝有兩個(gè)濺射電源直流（DC）電源：500W，針對(duì)于制作金屬膜射頻（RF）電源：600W，可制作氧化物和金屬膜同時(shí)可選配300W的射頻電源磁控濺射頭儀器中安裝有2個(gè)磁控濺射頭，而且都帶有水冷夾層，可通入冷卻水對(duì)靶材降溫其中一個(gè)濺射頭與射頻電源相連接，主要是濺射絕緣性靶材另一個(gè)濺射頭與直流電源相連接，主要濺射導(dǎo)電性靶材靶材尺寸要求：金屬靶：直徑為50mm,zui大厚度1.5mm 陶瓷靶：直徑為50mm,zui大厚度6mm 儀器中標(biāo)配一個(gè)不銹鋼靶和氧化鋁陶瓷靶濺射頭所需冷卻水：流速10ml/min（儀器中配有一臺(tái)流速為16ml/min的循環(huán)水冷機(jī)）也可以根據(jù)自己的要求選擇2個(gè)射頻濺射頭或3個(gè)射頻濺射頭，訂購(gòu)前需于本公司銷(xiāo)售人員真空腔體真空腔體：300 mm Dia x 300 mm h，采用不銹鋼制作觀(guān)察窗口： 100 mm diameter 腔體打開(kāi)方式采用上頂開(kāi)，使得換靶更加容易載樣臺(tái) 載樣臺(tái)尺寸：140mm dia.（zui大可放置4"的基底）載樣臺(tái)可以旋轉(zhuǎn)，其速度為：1 - 20 rpm （可調(diào)）載樣臺(tái)zui高可加熱溫度為500℃，控溫精度為+/- 1.0 °C 氣體流量控制器儀器內(nèi)部安裝有2個(gè)質(zhì)量流量計(jì) 量程為：0-200sccm 氣體流量設(shè)置可以在6英寸的觸摸屏上進(jìn)行操作真空泵系統(tǒng) 配有一套分子泵系統(tǒng)（德國(guó)制作），采用一鍵式操作薄膜測(cè)厚儀一個(gè)精密的石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀安裝在儀器上，可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜的厚度，分辨率為0.10 ? LED顯示屏顯示，同時(shí)也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù) 外形尺寸 L1300mm× W660mm× H1200mm 重量 160 kg 質(zhì)保期一年質(zhì)保期，終生維護(hù) https://www.chem17.com/st152911/erlist_1290255.html http://www.kjmti.com.cn/Products-24006809.html

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