檢測認證人脈交流通訊錄
- 快速退火爐是利用鹵素紅外燈做為熱源，通過j快的升溫速率，將晶圓或者材料快速的加熱到300℃-1200℃，從而消除晶圓或者材料內(nèi)部的一些缺陷，改善產(chǎn)品性能。 采用先進的微電腦控制系統(tǒng)，采用PID閉環(huán)控制溫度，可以達到*的控溫精度和溫度均勻性，并且可配置真空腔體，也可根據(jù)用戶工藝需求配置多路氣體。 應(yīng)用領(lǐng)域： 1.快速熱處理(RTP)，快速退火(RTA)，快速熱氧化(RTO)，快速熱氮化(RTN); 2.離子注入/接觸退火; 3.金屬合金; 4.熱氧化處理; 5.化合物合金(砷化鎵、氮化物等); 6.多晶硅退火; 7.太陽能電池片退火; 8.高溫退火; 9.高溫擴散。 快速退火爐主要由真空腔室、加熱室、進氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、溫度控制系統(tǒng)、氣冷系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)等幾部分組成。 真空腔室:真空腔室的工作空間，晶圓在這里進行快速熱處理。 加熱室:加熱室以多個紅外燈管為加熱元件，以耐高溫合金為框架、高純石英為主體。 進氣系統(tǒng):真空腔室尾部有進氣孔，精確控制的進氣量用來滿足一些特殊工藝的氣體需求。 真空系統(tǒng):在真空泵和真空腔室之間裝有高真空電磁閥，可以有效確保腔室真空度，同時避免氣體倒灌污染腔室內(nèi)的被處理工件。 溫度控制系統(tǒng):溫度控制系統(tǒng)由溫度傳感器、溫度控制器、電力調(diào)整器、可編程控制器、PC及各種傳感器等組成。 氣冷系統(tǒng):真空腔室的冷卻是通過進氣系統(tǒng)向腔室內(nèi)充入惰性氣體，來加速冷卻被熱處理的工件，滿足工藝使用要求。 水冷系統(tǒng):水冷系統(tǒng)主要包括真空腔室、加熱室、各部位密封圈的冷卻用水。 更多詳情請前往： https://www.hbzhan.com/st641112/product_21714785.html http://www.qianwangkj.com/Products-21714785.html
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