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蘇州豐碩清洗機(jī)分類：UV光清洗機(jī)、UV清洗機(jī)、紫外線光清洗機(jī)、UV光臭氧清洗機(jī)、涂裝清洗機(jī)設(shè)備

UV光清洗機(jī)的工作原理

UV光清洗技術(shù)是利用有機(jī)化合物的光敏氧化作用達(dá)到去除黏附在材料表面上的有機(jī)物質(zhì)，經(jīng)過光清洗后的材料表面可以達(dá)到“原子清潔度”。

更詳盡的講：UV光源發(fā)射波長(zhǎng)為185nm和254nm的光波，具有很高的能量，當(dāng)這些光子作用到被清洗物體表面時(shí)，由于大多數(shù)碳?xì)浠衔飳?duì)185nm波長(zhǎng)的紫外光具有較強(qiáng)的吸收能力，并在吸收185nm波長(zhǎng)的紫外光的能量后分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子和中子，這就是所謂的光敏作用。

空氣中的氧氣分子在吸收185nm波長(zhǎng)的紫外光后也會(huì)產(chǎn)生臭氧和原子氧。臭氧在254nm波長(zhǎng)的紫外光同樣具有強(qiáng)烈的吸收作用，臭氧又分為原子氧和氧氣。

其中原子氧是極活潑的，在它的作用下，物體表面的碳和碳?xì)浠衔锏姆纸馕锟蓳]發(fā)的氣體：二氧化碳和水蒸氣等逸出表面，從而徹底清除氣、黏附在物體表面上的碳和有機(jī)污染物。清洗時(shí)，使基板治濕性向上。

玻璃基板是以滾輪方式輸送，上方裝置低壓水銀燈產(chǎn)生紫外線照射。玻璃基板所累積外線能量愈多，其表面水接觸愈小，成反比關(guān)系。一般STN-LCD制作過程中，需求的玻璃基板累積紫外線能量為300nj/cm2(253.7nm)以上。

而色彩STN-LCD及彩色濾光片制作過程中，要求的玻璃基板累積紫外線能量為600nj/cm2(253.7nm)。

在TFT-LCD制作過程中，除了低壓水銀燈產(chǎn)生臭氧清洗玻璃外，目前制程的主流是，使用Excimerlamp，其172nm波長(zhǎng)紫外線的高反映性質(zhì)對(duì)玻璃的清洗效率更好。

UV光清洗機(jī)適用產(chǎn)品范圍

（1）可在空氣中進(jìn)行并且在清洗后不必進(jìn)行干燥。

（2）可徹底清除物體表面的碳和有機(jī)污染物。

（3）無溶劑揮發(fā)及廢物溶劑的處理問題。

（4）保證產(chǎn)品的高可靠性和高成品率。

（5）產(chǎn)品表面清洗處理的均勻一致。

（6）由于光清洗時(shí)通過光敏、氧化反應(yīng)去除物體表面的碳和有機(jī)化合物，所以容易發(fā)生氧化的表面不宜用光清洗方法，只適對(duì)表面污垢清洗、不適對(duì)污垢量較多，無機(jī)類污垢清洗。

可采用UV光清洗的產(chǎn)品主要在液晶顯示器件、半導(dǎo)體硅晶片、集成電路、高精度印制電路板、光學(xué)器件、石英晶體、密封技術(shù)、帶氧化膜的金屬材料等產(chǎn)生過程中采用光清洗方法最為合適。

主要材料：ITO玻璃、光學(xué)玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅晶片和帶有氧化膜的金屬等進(jìn)行精密清洗處理?？梢匀コ酃福河袡C(jī)性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹脂添加劑及聚亞胺、石蠟、松香、潤(rùn)滑油、殘余的光刻膠等。

UV光清洗技術(shù)在現(xiàn)代信息技術(shù)行業(yè)中使用光清洗技術(shù)比較普遍，隨著我國(guó)工業(yè)現(xiàn)代化的發(fā)展，光清洗和光改質(zhì)技術(shù)還將逐步應(yīng)用于金屬、塑料、橡膠等工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域。

聯(lián)系人：連經(jīng)理

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