400mW)、および2種類の偏光照明により、高感度化を達(dá)成 初期狀態(tài)のマス?">
檢測認(rèn)證人脈交流通訊錄
LASERTEC 掩模缺陷檢測儀 MATRICS X8ULTRA系列
- 這真不是您需要的產(chǎn)品?
- 品 牌:
- LASERTEC
- 主要規(guī)格:
- デザインノード7nm~5nmのEUVマスクおよびフォトマスクに対応できる半導(dǎo)體マスク検査システム ピクセルサイズ45nm、ハイパワー213nmQCWレーザー(>400mW)、および2種類の偏光照明により、高感度化を達(dá)成
- 用 途:
- ウェハファブにおけるEUVマスクおよびフォトマスクの受入検査、定期的な品質(zhì)確認(rèn)検査 EUVマスクおよびフォトマスクの製造工程における出荷前検査
- 特長
デザインノード7nm~5nmのEUVマスクおよびフォトマスクに対応できる半導(dǎo)體マスク検査システム
ピクセルサイズ45nm、ハイパワー213nmQCWレーザー(>400mW)、および2種類の偏光照明により、高感度化を達(dá)成
初期狀態(tài)のマスクパターンの全畫像を保存し、ウェハ露光後のマスクパターンと比較して、マスク上の異物を検出するマスクtoマスク比較検査機(jī)能(MtM機(jī)能)を搭載
マスクのパターン寸法分布(CD uniformity)をマスク検査と同時に計測し、可視化する機(jī)能を搭載
EUVマスク用のDual Pod、フォトマスク用のRSP150、RSP200に対応可能
OHT(Overhead Hoist Transport)と連動した全自動検査が可能
ステージ系と電気ラック系を一體化した設(shè)計により、コンパクトなフットプリントを達(dá)成
用途
ウェハファブにおけるEUVマスクおよびフォトマスクの受入検査、定期的な品質(zhì)確認(rèn)検査
EUVマスクおよびフォトマスクの製造工程における出荷前検査
仕様
検査方式 マルチダイモード、シングルダイモード、MtMモード
検査スキャン時間 50分/100mmx100mmエリア
対応マスク EUV用マルチレイヤー、Cr、MoSi、OMOG
マスクサイズ 6インチ
深圳京都玉崎株式會社
- 地址:
- 江蘇蘇州市高新區(qū)竹園路7號中梁香緹商務(wù)廣場2棟1201室
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