檢測認證人脈交流通訊錄
- HI84100二氧化硫滴定分析儀概述： HI84100采用滴定分析方法快速測量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領域，二氧化硫的主要應用是進行防腐。以葡萄酒為例，當有氧存在時將最先與二氧化硫發(fā)生反映，起到抗氧化的作用，進而保證酵母菌的正常發(fā)酵，并抑制其他雜菌。 HI84100二氧化硫滴定分析儀特點： * 基于微電腦控制技術，集滴定分析，磁力攪拌和電極測量于一體。 * 性能優(yōu)良操作簡單，可直接顯示測量結果。 * 人性化設計，具有穩(wěn)定標識和校準信息等顯示功能。 * 殘留二氧化硫濃度取決于三個因素：總添加量，原初始量，添加的氧化程度。 * 通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用。 * 當殘留濃度超過2.0ppm時，即被人感知到，因此以此濃度作為上限值。 HI84100二氧化硫滴定分析儀技術參數(shù)： 測量項目 技術參數(shù)描述 測量范圍 0 to 400 ppm (mg/L) SO2 解析度 1 ppm (mg/L) 測量精度 讀數(shù)的5% 測量方法 滴定法 測量原理 等電位氧化還原滴定法 樣品取樣量 50 mL 氧化還原電極類型 HI 3148B/50食品專用玻璃復合氧化還原電極，電極適用溫度范圍：20 to 40°C 定量泵設置 流量設置為：0.5 mL/min 磁力攪拌設置 攪拌速率設置為：1500 rpm 適用環(huán)境 0 to 50°C（32 to 122°F）；max 95% RH 無冷凝 電源模式 AC230V/60 Hz；10VA 尺寸重量 主機尺寸：208 x 214 x 163 mm 主機重量：2200 g pH值與游離二氧化硫轉換關系 相關項目 pH值與游離二氧化硫轉換對應值 pH值 3.0pH 3.1 pH 3.2 pH 3.3 pH 3.4 pH 3.5 pH 3.6 pH 3.7 pH 3.8 pH 3.9 pH 游離二氧化硫（ppm） 14 18 22 28 35 44 55 69 87 109 HI84100二氧化硫滴定分析儀市場價格： 型號 HI84100 市場價格 8800元 HI84100標準配置： 滴定分析儀主機、HI 3148B/50食品專用玻璃復合氧化還原電極、相關附件、專用攜帶箱、中英文使用手冊
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