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實(shí)驗(yàn)室用紫外光臭氧清洗機(jī),UV O3 cleaner

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出廠價(jià)：
18000 元/臺(tái)

主要規(guī)格：
200*200mm有效清洗面積

用　　途：
清洗ITO表面有機(jī)物，改善親水性，減小接觸角，減小表面張力

深圳市匯沃科技有限公司銷售部陳先生電話：0755-33592313 傳真：0755-33592315 Q Q:574665317 EMAIL: hwotech@gmail.com 紫外臭氧清洗機(jī)HW200 紫外臭氧清洗機(jī)HW200適用于中小型生產(chǎn)和科研工作，用于清洗產(chǎn)品基片的表面有機(jī)物，即進(jìn)行表面改性，表面張力變小，從而獲得較好的表面親水性，其有效清洗尺寸為200mm*200mm（8英寸）。產(chǎn)品配置電源：220V；有效清洗面積：200m*200m；燈管：特殊格冊(cè)狀石英燈管，壽命3000-5000小時(shí)；時(shí)間控制：0-99小時(shí)或分鐘；清洗托盤(pán)：清洗托盤(pán)高度可以手動(dòng)任意調(diào)節(jié)；進(jìn)氣口：可通過(guò)設(shè)備背面進(jìn)氣口輸入所需氣體；排風(fēng)功能：自帶抽風(fēng)機(jī)，可調(diào)節(jié)風(fēng)速；產(chǎn)品特點(diǎn) ◇ 大氣中處理，簡(jiǎn)單方便，環(huán)保無(wú)二次污染，無(wú)需加熱、藥液等處理。 ◇ 清潔度極高，單分子層以下，可以得到其它處理方法難以達(dá)到的清潔度、接著性。 ◇ 國(guó)內(nèi)獨(dú)有的超高出力短波長(zhǎng)紫外線光源，僅需短時(shí)間（秒單位）照射，發(fā)揮強(qiáng)大的處理能力。 ◇ 不對(duì)材料的表面產(chǎn)生損傷。 ◇ 相對(duì)于濕式清洗成本低。 ◇ 沒(méi)有液體表面張力的影響，超微細(xì)部的清洗容易。產(chǎn)品應(yīng)用 1 液晶表示元件基板　　2 記憶盤(pán)片　　　　　3 IC基板　　　　4 壓電元件 5 IC外裝材　　　　　　6 微電容器件　　　　7 水晶振動(dòng)子　　8 石英玻璃.ITO玻璃 9 光學(xué)器件　　　　　　10 磁頭及其掛鉤件　 11 半導(dǎo)體晶片　 12 各種塑料表面 13 各種金屬表面　　　 14 各種橡膠　　　　 15 各種玻璃　 16 各種陶瓷表面……等等各種固體表面除被清洗外，多種材料表面還被改性的表面具有更強(qiáng)的接著性能。紫外光清洗工作原理 VUC低壓紫外汞燈能同時(shí)發(fā)射波長(zhǎng)254nm和185nm的紫外光，這兩種波長(zhǎng)的光子能量可以直接打開(kāi)和切斷有機(jī)物分子中的共價(jià)鍵，使有機(jī)物分子活化，分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子等。與此同時(shí)，185nm波長(zhǎng)紫外光的光能量能將空氣中的氧氣（O2）分解成臭氧（O3）；而254nm波長(zhǎng)的紫外光的光能量能將O3分解成O2和活性氧（O），這個(gè)光敏氧化反應(yīng)過(guò)程是連續(xù)進(jìn)行的，在這兩種短波紫外光的照射下，臭氧會(huì)不斷的生成和分解，活性氧原子就會(huì)不斷的生成，而且越來(lái)越多，由于活性氧原子（O）有強(qiáng)烈的氧化作用，與活化了的有機(jī)物（即碳?xì)浠衔铮┓肿影l(fā)生氧化反應(yīng)，生成揮發(fā)性氣體（如CO2，CO，H2O，NO等）逸出物體表面，從而徹底清除了粘附在物體表面上的有機(jī)污染物。紫外光表面清洗原理表達(dá)式：低壓紫外汞燈發(fā)射的185nm和254nm波長(zhǎng)的紫外光除有清洗去除物體表面的有機(jī)污染物的功能外，而且還能夠進(jìn)行表面改質(zhì)。其基本原理為：光子能量把物體的表層分子鍵打開(kāi)的同時(shí)拉出H原子和C原子，與空氣中的氧氣分解出來(lái)的活性氧（O）生成極性很強(qiáng)的原子團(tuán)（OH，CHO，COOH）即羥基等活性基，同時(shí)材料表面有機(jī)污染物的清洗效果顯著，活化的基體表面具有良好的粘合力和鍵合特性，這些羥基和涂料、粘合劑、電鍍材料相結(jié)合，形成新的化學(xué)鍵，從而使材料表面得到通常情況下得不到的很強(qiáng)的粘結(jié)強(qiáng)度，或者使材料得到穩(wěn)定的表面性能。

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