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全自動離子濺射儀全自動操作

  • 這真不是您需要的產(chǎn)品？
  • 品　　牌：
  • 主要規(guī)格：
  • 用　　途：
    • 　　全自動離子濺射儀是一種用于在掃描電鏡樣品制備、電極材料研究等領域中，通過磁控方式實現(xiàn)高真空環(huán)境下的精確鍍膜的設備。離子濺射儀為掃描電鏡用戶在制樣過程中提供了更廣泛的選擇，以便適用支持掃描電子顯微鏡所需的涂層要求。在結(jié)構(gòu)設計及人機界面方面更加注重人性，簡單智能。 　　全自動離子濺射儀全自動操作，簡單易用。該儀器非常適合用于鎢燈絲、臺式掃描電鏡等應用。它具有以下功能： 　　(1) 濺射電流自動調(diào)整：在設定了濺射電流后，系統(tǒng)會自動調(diào)節(jié)真空度，以達到設定的濺射電流。調(diào)整時間小于5秒，波動范圍小于±5%。用戶無需按下“實驗”鍵來調(diào)整濺射電流，也無需操作“進氣閥”。 　　(2) 濺射時間自動記憶：對于同類樣品，只需進行一次設定即可。 　　(3) 參數(shù)改變自動調(diào)整：在濺射過程中，用戶可以隨時調(diào)整濺射電流和濺射時長。系統(tǒng)會自動計算疊加，無需終止濺射過程。 　　(4) 工作完成自動放氣：當濺射過程完成后，系統(tǒng)會自動放氣，方便用戶取出樣品。 　　(5) 樣品臺高度調(diào)節(jié)1秒完成：用戶可以通過簡單的操作快速調(diào)節(jié)樣品臺的高度，節(jié)省時間和精力。 　　(6) 濺射過程可以利用曲線顯示，清晰直觀：用戶可以通過曲線圖來觀察濺射過程的變化，更加直觀地了解實驗進展情況。 　　全自動離子濺射儀(射頻磁控濺射鍍膜儀)主要應用于配套掃描電鏡的樣品制備工作，同時可以滿足不同用戶對樣品涂層的制備要求。擁有優(yōu)秀的濺射系統(tǒng)，可以更換不同的金屬靶材（金，鉑，銀，銥，鉻，銅等），實現(xiàn)高要求的細粒涂層。GVC系列為您提供優(yōu)質(zhì)的樣品制備，輕松助您取得更好地材料研究樣品， 獲得高質(zhì)量的顯微鏡觀測效果。 　　http://www.gevee-tech.com.cn/product/198.html

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