檢測認證人脈交流通訊錄
- 射頻磁控濺射鍍膜儀 主要應用于配套掃描電鏡的樣品制備工作，同時可以滿足不同用戶對樣品涂層的制備要求。擁有優(yōu)秀的濺射系統(tǒng)，可以更換不同的金屬靶材（金，鉑，銀，銥，鉻，銅等），實現(xiàn)高要求的細粒涂層。GVC系列為您提供優(yōu)質(zhì)的樣品制備，輕松助您取得更好地材料研究樣品， 獲得高質(zhì)量的顯微鏡觀測效果。 GVC-1000 全自動離子濺射儀(射頻磁控濺射鍍膜儀)性能參數(shù) 1、離子濺射儀工作原理：磁控濺射 2、可選靶材：金，鉑，金鈀合金，鉛，銀，銅，鉻，銻等 3、真空室：φ128×100高硅硼玻璃 4、全自動操作，簡單易用，非常適用鎢燈絲、臺式掃描電鏡等 （1）濺射電流自動調(diào)整——設(shè)定濺射電流后，系統(tǒng)自動調(diào)節(jié)真空度，從而達到設(shè)定的濺射電流，調(diào)整時間＜5s，波動范圍＜±5%； （2）無需按“實驗”鍵調(diào)整濺射電流、無需操作“進氣閥”。 （3）濺射時間自動記憶——同類樣品一次設(shè)定即可； ?。?）參數(shù)改變自動調(diào)整——濺射過程中可以隨時調(diào)整濺射電流和濺射時長，系統(tǒng)自動計算疊加，無需終止濺射過程； （5）工作完成自動放氣； （6）樣品臺高度調(diào)節(jié)1秒完成； ?。?）濺射過程可以利用曲線顯示，清晰直觀。 ?。?）極限真空：小于1Pa 5、軟硬件互鎖，防誤操作，安全可靠 ?。?）真空度高于100Pa，啟動真空保護，無法濺射； ?。?）濺射電流高于50mA，停止濺射過程； ?。?）真空泵工作時，系統(tǒng)無法進行放氣操作； 6、鍍層均勻，導電性良好。 https://www.chem17.com/st506164/product_38091672.html http://www.gevee-tech.com.cn/product/198.html
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