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LASERTEC 光刻工藝檢測(cè)裝置 LX330
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- 品 牌：
- LASERTEC
- 主要規(guī)格：
- 獨(dú)自の光學(xué)系による高感度CD測(cè)定実現(xiàn) 高速撮像のためウェハ全面測(cè)定が可能 下地パターンの影響をキャンセルできる獨(dú)自の光學(xué)系 業(yè)界初のCDU検査?分類機(jī)能搭載
- 用 途：
- リソグラフィ工程におけるウェハ面內(nèi)?ショット內(nèi)?チップ內(nèi)のCD分布管理 エッチング工程におけるウェハ面內(nèi)?ショット內(nèi)?チップ內(nèi)のCD分布管理 ウェハ外周部CDのSPC管理
- 特長(zhǎng) 獨(dú)自の光學(xué)系による高感度CD測(cè)定実現(xiàn) 高速撮像のためウェハ全面測(cè)定が可能 下地パターンの影響をキャンセルできる獨(dú)自の光學(xué)系 業(yè)界初のCDU検査?分類機(jī)能搭載 用途 リソグラフィ工程におけるウェハ面內(nèi)?ショット內(nèi)?チップ內(nèi)のCD分布管理 エッチング工程におけるウェハ面內(nèi)?ショット內(nèi)?チップ內(nèi)のCD分布管理 ウェハ外周部CDのSPC管理
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