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氮化硅薄膜窗口

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X-射線(xiàn)薄膜窗口能夠?qū)崿F(xiàn)軟 X-射線(xiàn)（如真空紫外線(xiàn)）的最大透射率。X-射線(xiàn)越軟，能量越低，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗口越薄。特別在“離軸”狀態(tài)工作（即薄膜與光束成一定角度）時(shí)，也需要較薄的薄膜窗口，便于 X 射線(xiàn)的更好穿透?，F(xiàn)有技術(shù)一般采用計(jì)量式或ST氮化硅薄膜，但或ST薄膜具有較高的殘余應(yīng)力，不夠結(jié)實(shí)，容易破裂。而且基于 X-射線(xiàn)顯微透射成像需要，氮化硅薄膜對(duì)軟-X射線(xiàn)必須滿(mǎn)足有較小的吸收。另一方面，有時(shí)我們會(huì)提到薄膜窗口透光性能，即視覺(jué)上其可以“透視”。如在透光顯微鏡下，薄膜只有超過(guò)一定厚度，透光性能才會(huì)減弱。在估算薄膜的透光性能時(shí)，應(yīng)當(dāng)注意吸收界限，如果需要考慮光學(xué)性能，吸收界應(yīng)低于13nm，當(dāng)吸收界限為13nm時(shí)，100nm厚的薄膜透光度為 44%；吸收界限為12.4nm時(shí)，透光度降為13%。因此，在氮化硅薄膜窗口、支撐淡化過(guò)薄膜的襯底選擇及薄膜、襯底的厚度控制上，以及氮化硅薄膜窗口的射線(xiàn)透過(guò)特性上，現(xiàn)有的氮化硅窗口都有缺陷。鑒于上述問(wèn)題，本實(shí)用型設(shè)計(jì)一種X-射線(xiàn)顯微鏡透射成像用的窗口。本實(shí)用新型涉及一種用于同步輻射X射線(xiàn)透射顯微成像時(shí)承載工具，特別涉及一種 X 射線(xiàn)顯微透射成像用窗口，包括控制厚度的硅晶片襯底、氮化硅薄膜窗口溝槽、控制厚度的低應(yīng)力氮化硅薄膜，由于此種氮化硅薄膜窗口選用低應(yīng)力氮化硅薄膜，比計(jì)量式和ST氮化硅薄膜更堅(jiān)固耐用。本實(shí)用新型氮化硅薄膜窗口非常適合應(yīng)用于透射成像和透射能譜等廣泛的科學(xué)研究領(lǐng)域。例如，X-射線(xiàn)（光源透射成像/能譜線(xiàn)站）、TEM、SEM、IR、UV等。氮化硅薄膜窗口成膜光滑，強(qiáng)度大、致密性好，表面平整性很穩(wěn)定（粗糙度小于1nm），對(duì)于X-射線(xiàn)應(yīng)用沒(méi)有任何影響；可應(yīng)用于高溫領(lǐng)域，能夠承受 1000 度高溫，非常適合在硅晶片襯底表面利用CVD方法生長(zhǎng)各種納米材料；具備較好的薄膜窗格透光性能。氮化硅薄膜窗口系列（常規(guī)窗口，200um硅片厚度） SN-LDE-505-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：50nm SN-LDE-510-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：100nm SN-LDE-515-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：150nm SN-LDE-520-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：200nm SN-LDE-705-25 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：2.5×2.5mm，膜厚：50nm SN-LDE-710-25 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：2.5×2.5mm，膜厚：100nm SN-LDE-715-25 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：2.5×2.5mm，膜厚：150nm SN-LDE-720-25 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：2.5×2.5mm，膜厚：200nm SN-LDE-105-30 氮化硅薄膜窗口，框架：10×10mm，窗口：3×3mm，膜厚：50nm SN-LDE-110-30 氮化硅薄膜窗口，框架：10×10mm，窗口：3×3mm，膜厚：100nm SN-LDE-115-30 氮化硅薄膜窗口，框架：10×10mm，窗口：3×3mm，膜厚：150nm SN-LDE-120-30 氮化硅薄膜窗口，框架：10×10mm，窗口：3×3mm，膜厚：200nm 氮化硅薄膜窗口陣列系列（常規(guī)窗口，200um硅片厚度） SN-AR-522-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，2×2陣列，膜厚：50nm SN-AR-733-15 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：1.5×1.5mm，3×3陣列；膜厚：50nm SN-AR-1044-15 氮化硅薄膜窗口，框架：10×10mm，窗口：1.5×1.5mm，4×4陣列；膜厚：100nm 氧化硅薄膜窗口系列（常規(guī)窗口，200um硅片厚度） SO-505-15 氧化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：50nm SO-510-15 氧化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：100nm SO-520-15 氧化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：150nm SO-705-25 氧化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：1.5×1.5mm，3×3陣列，膜厚：50nm SO-710-25 氧化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：1.5×1.5mm，3×3陣列，膜厚：100nm SO-720-25 氧化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：1.5×1.5mm，3×3陣列，膜厚：200nm 氮化硅薄膜窗口系列（常規(guī)窗口，200um硅片厚度） SN-1010-2-AU10 氮化硅基底框架：10×10mm，窗口：2×2mm，膜厚：100nm，金膜厚度：10nm SN-1020-2-AU10 氮化硅基底框架：10×10mm，窗口：2×2mm，膜厚：200nm，金膜厚度：10nm SN-710-2-AU10 氮化硅基底框架：7.5×7.5mm，窗口：2×2mm，膜厚：100nm，金膜厚度：10nm SN-720-2-AU10 氮化硅基底框架：7.5×7.5mm，窗口：2×2mm，膜厚：200nm，金膜厚度：10nm 特殊定制產(chǎn)品 SN-5H5-15 氮化硅基底框架：5×5mm，硅片厚度：200um，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：500nm SN-5H10-15 氮化硅基底框架：5×5mm，硅片厚度：200um，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：1000nm SN-LDE-4-10 氮化硅片100nm-4英寸整張，10×10mm切片其他特殊規(guī)格窗口：氮化硅薄膜窗口系列（特殊窗口，200um硅片厚度） SN-LDE-12A-50 氮化硅薄膜窗口，框架：12mm×12mm，窗口：5mm×5mm，膜厚：50nm SN-LDE-12B-50 氮化硅薄膜窗口，框架：12mm×12mm，窗口：5mm×5mm，膜厚：100nm SN-LDE-12C-50 氮化硅薄膜窗口，框架：12mm×12mm，窗口：5mm×5mm，膜厚：150nm SN-LDE-12D-50 氮化硅薄膜窗口，框架：12mm×12mm，窗口：5mm×5mm，膜厚：200nm 氮化硅薄膜窗口系列（特殊窗口，200um硅片厚度） SN-LDE-12A-30 氮化硅薄膜窗口，框架：12mm×12mm，窗口：3mm×3mm，膜厚：50nm SN-LDE-12B-30 氮化硅薄膜窗口，框架：12mm×12mm，窗口：3mm×3mm，膜厚：100nm SN-LDE-12C-30 氮化硅薄膜窗口，框架：12mm×12mm，窗口：3mm×3mm，膜厚：150nm SN-LDE-12D-30 氮化硅薄膜窗口，框架：12mm×12mm，窗口：3mm×3mm，膜厚：200nm 氮化硅薄膜窗口系列（特殊窗口，200um硅片厚度，鍍金屬元素） SN-510-1-Al2000 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Al膜厚2000nm SN-510-1-Mg2000 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Mg膜厚2000nm SN-510-1-Cu100 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Cu膜厚100nm SN-510-1-Fe100 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，F(xiàn)e膜厚100nm SN-510-1-Mn100 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Mn膜厚100nm SN-510-1-Ni100 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Ni膜厚1000nm SN-510-1-Ca1000 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Ca膜厚1000nm SN-510-1-Ge1000 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Ge膜厚100nm SN-510-1-Se1000 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Se膜厚1000nm SN-510-1-Cr100 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Cr膜厚100nm SN-510-1-Co100 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Co膜厚100nm SN-510-1-Ga500 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Ga膜厚500nm SN-510-1-La1000 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，La膜厚100nm SN-510-1-Mo100 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Mo膜厚100nm SN-510-1-Ti200 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Ti膜厚200nm SN-510-1-V200 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，V膜厚200nm SN-510-1-Te100 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Te膜厚100nm SN-510-1-Cd100 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Cd膜厚100nm 注：我們可以根據(jù)您實(shí)際需求的規(guī)格要求定制，根據(jù)加工難度、訂購(gòu)量，有相應(yīng)的優(yōu)惠！同時(shí)也提供氮化硅這一系列的技術(shù)咨詢(xún)服務(wù)。

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王

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